电子元器件包括半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对清洗用水质的要求也越高。我国电子工业部把电子级水质技术要求分为五个行业等级，为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，用来满足电子元器件行业用水要求。
电子元器件用超纯水处理设备在20世纪90年代开始逐渐发展发展起来，也是纯水生产技术的一次革命式的跨越，应用到的领域也很多。
电子元器件清洗用超纯水处理设备工艺详情：
1、盐处理(EDI)：主要去除水中的各种无机盐离子。出水符合国家纯净水标准GB-17324-98，超纯水电阻率：10-18MΩ·CM。
2、石英砂过滤：滤除原水中细小颗粒、悬浮物、胶体等杂质。
3、活性炭过滤：除去水中游离氯和有机物以保护反渗透设施。
4、阻垢剂加药：防止反渗透膜受难溶盐结垢的污染。
5、精密过滤：截留原水中的大于5微米的颗粒，以保证反渗透膜不被大颗粒的悬浮物划伤。
6、高压泵：为反渗透膜提供足够的进水压力，以保证反渗透正常产水量。
7、反渗透装置：主要去除水中的各种无机盐离子。