高纯三氟化氯主要用于芯片制程中的蚀刻、硅片和腔体清洗，由于其高氟碳比和较强的氟离子自由基，在先进制程中的应用越来越广泛，特别在14nm以下制程中，是不可替代的新型蚀刻材料。此外，高纯三氟化氯相比于普通的氟碳蚀刻材料，其极低的GWP值（全球变暖潜能值），也满足未来芯片制程向更环保、更加可持续发展的需求。
此次合作，双方充分发挥多年的研究、应用成果和科研团队优势，进一步实现技术突破，从而达到进口替代的目标，并同时对促进国家半导体行业的发展上具有重要意义。随着半导体工艺的不断升级迭代，未来高纯三氟化氯在芯片制造、第三代半导体、面板等行业拥有广阔的市场潜力。此次合作将有助于提高华特气体的盈利能力和核心竞争力，助力公司深耕特种气体行业。
